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Description

Fonte di Luce Parallela Matriciale Nuova Vanta una esposizione più omogenea

Può posizionare rapidamente gli angoli della piattaforma di stampa durante il livellamento

un estrusore integrato può fornire il filamento in modo più efficiente e preciso

prototipazione

rimuovere il modello in tempo dopo la pulizia per evitare che il modello rimanga immerso nell'acqua per troppo tempo

Anycubic Photon Mono 4 Include macchina:Wash & Cure 3 Plus Fonte di Luce Parallela MatricialeAnycubic Photon Mono 4

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